Tela De Titânio Revestida Com Ir-Ta Para Produção De Folha De Cobre Eletrolítica
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Tela De Titânio Revestida Com Ir-Ta Para Produção De Folha De Cobre Eletrolítica

Tela De Titânio Revestida Com Ir-Ta Para Produção De Folha De Cobre Eletrolítica

Superior resistência à corrosão ácida.

Sem contaminação por metais pesados.

A estrutura de tela aberta otimiza a hidrodinâmica.

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Introdução de Produto

A folha de cobre eletrolítica é um material condutor indispensável para coletores de corrente de baterias de lítio, PCBs de alta velocidade e componentes eletrônicos. A qualidade da folha de cobre eletrolítica depende em grande parte da estabilidade dos ânodos insolúveis dentro do sistema de eletrodeposição de cobre. Como um ânodo dimensionalmente estável (DSA) de alto desempenho, a tela de titânio revestida com Ir-Ta tornou-se gradualmente a solução de eletrodo preferida para linhas modernas de produção de folha de cobre eletrolítico que operam em sistemas eletrolíticos de ácido sulfúrico-sulfato de cobre.

Fabricado com substrato de tela de titânio puro Grau 1 e revestimento de óxido misto de irídio-tântalo termicamente decomposto, este ânodo de tela oferece notável atividade eletrocatalítica para reações de evolução de oxigênio. A estrutura de tela aberta facilita a circulação suave do eletrólito e a descarga oportuna das bolhas de oxigênio, prevenindo efetivamente o acúmulo de bolhas que causa defeitos superficiais, como furos e espessura irregular na folha de cobre. Em comparação com os ânodos tradicionais de chumbo, a tela de titânio revestida com Ir-Ta evita a contaminação por íons de chumbo, garantindo alta pureza da folha de cobre depositada, o que é fundamental para a fabricação de folha de cobre ultrafina de alto padrão para baterias.

Operando continuamente em eletrólitos fortemente ácidos, o revestimento composto de irídio-tântalo apresenta excelente resistência à corrosão e forte aderência à base de titânio. Mantém baixo sobrepotencial de evolução de oxigênio sob alta densidade de corrente, reduzindo a tensão da célula e diminuindo o consumo geral de energia para produção prolongada. Este ânodo de tela de titânio permite operação estável e duradoura, prolonga a vida útil e reduz trabalhos frequentes de manutenção, bem como o tempo de inatividade da produção para fabricantes de folha de cobre eletrolítica.

 

Especificações:

Material: Titânio Puro

Tamanho: 60*20*1 mm

Abertura da malha: 3*6 mm

Revestimento: Revestimento Ir-Ta

Área de revestimento: Ambos os lados

Técnica: Escovação

 

Vantagens
Ir-Ta Coated Titanium Mesh for Electrolytic Copper Foil Production 4

A excelente propriedade catalítica para evolução de oxigênio é fornecida pelo revestimento de óxido misto de Ir-Ta. Ele mantém baixo sobrepotencial de evolução de oxigênio em altas densidades de corrente, o que reduz a tensão da célula e minimiza o consumo de energia na fabricação contínua de folha de cobre eletrolítica.

Superior resistência à corrosão ácida. Opera de forma estável em ambiente eletrolítico de ácido sulfúrico e sulfato de cobre a longo prazo, evitando a passivação do substrato e estendendo a vida útil do ânodo.

Sem contaminação por metais pesados. Diferentemente dos ânodos tradicionais de chumbo, não libera íons de chumbo, garantindo alta pureza da folha de cobre depositada, atendendo aos requisitos rigorosos para folha de cobre para baterias e para PCBs.

Ir-Ta Coated Titanium Mesh for Electrolytic Copper Foil Production 1

A estrutura de tela aberta otimiza a hidrodinâmica. O design da tela acelera a circulação do eletrólito e descarrega rapidamente as bolhas de oxigênio. Previne a aglomeração de bolhas, reduzindo consideravelmente defeitos como furos, manchas e irregularidades de espessura na folha de cobre.

Forte adesão do revestimento. O revestimento Ir-Ta decomposto termicamente se liga firmemente ao substrato de titânio, resistindo à erosão e ao desgaste causados pelo fluxo do eletrólito e pela liberação de gás durante operação prolongada.

Aplicações
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Eletroextração ácida de metais e recuperação de metais
Eletrodeposição de cobalto, níquel, zinco e manganês a partir de eletrólito à base de ácido sulfúrico; reciclagem de metais valiosos de águas residuais industriais ácidas.

Eletrodeposição de alto desempenho
Ânodo insolúvel para cromagem dura, deposição em PCBs, deposição de metais preciosos como ouro e ródio, substituindo ânodos de chumbo e grafite.

Tratamento avançado de águas residuais por oxidação eletroquímica
Este ânodo trata águas residuais industriais de difícil tratamento por meio de eletro-oxidação, abrangendo lixiviado de aterro sanitário, efluentes orgânicos com alta DQO e águas contaminadas por metais pesados.

Eletrólise da água com membrana PEM para produção de hidrogênio verde
Utilizado como substrato de eletrodo anódico para eletrolisadores PEM. O revestimento Ir-Ta fornece excelente desempenho catalítico para OER em sistemas de membrana de troca de prótons fortemente ácidos.

Proteção catódica por corrente impressa offshore (ICCP)
Ânodos auxiliares para navios, plataformas offshore e dutos submarinos. Apresenta bom desempenho em água do mar com meios contendo brometos e sulfatos.

Equipamentos para pesquisa eletroquímica em laboratório
Células eletroquímicas de teste, síntese orgânica eletroquímica e dispositivos experimentais de polimento eletrolítico.

 

 

 

 

 

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