Alvo de Titânio GR5material refere-se à fonte de pulverização catódica que forma vários filmes funcionais no substrato por pulverização catódica por magnetron, chapeamento de íons multi-arco ou outros tipos de equipamentos de revestimento sob condições de processo apropriadas. Alvos de pulverização são amplamente utilizados em decoração, moldes, vidro, dispositivos eletrônicos, semicondutores, gravação magnética, exibição de avião, células solares e muitos outros campos.

A pureza é um dos principais índices de desempenho do material alvo porque a pureza do material alvo tem grande influência no desempenho fino.

Diferentes materiais alvo têm diferentes requisitos para diferentes teores de impurezas sob diferentes condições.

Normalmente, o material alvo é policristalino com tamanhos de grão que variam de mícron a milímetros. Para o mesmo alvo, a taxa de pulverização do alvo com grão fino é mais rápida do que a do alvo com grão grosso. Os filmes finos depositados por pulverização alvo com diferenças de tamanho de grão menores (distribuição uniforme) têm uma distribuição de espessura mais uniforme.

Fornecedores alvo de pulverização de titânio

High Purity Titanium Sputtering Target Alvo de pulverização de titânio de alta pureza